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而到了今天,西方攻克了14纳米芯片后,已经把目光看向了7纳米芯片,自然而然的,20纳米DUV光刻机就被放开了。

米国目的很明显,允许你用,但不允许你超越。

越是害怕,越会提防,因为龙国才脱离战争不到三十年,就发展到了世界第二大经济体,再给发展三十年会怎么样?

沉睡的雄狮,东方的巨龙,它们哪敢不防?

陈星虽然是商人,但同时也是位龙国商人,如果能在自家搞出14纳米芯片,那他还是愿意多支付一些流片费用的。

毕竟曲程也说了,之前龙兴科技公司申请的国家芯片扶持也走完审核流程,资金和土地都进入了最终的批准环节。

“说说使用这个多重曝光技术,流片要多少钱?”

陈星表明自己态度。

林天得到确切的答复后,述说自己的想法道

“光刻多重曝光技术,说通俗直白一点就是,原本只需一块的芯片掩膜版就可以搞定的生产,现在我们因为光刻机精度和分辨率的限制,将它拆分多块,每一块都有相对应的电路图案。”

“比如我们要做14纳米芯片,可以把设计的芯片电路图案拆开,就得到了两份28纳米间隔的电路图案,分两次把它们刻在硅片上,就会形成完整的14纳米芯片电路图案,就类似于我们龙国的太极图,一阴一阳互补的意思。”

“因为是两块芯片掩膜版,所以要给双倍的流片费用。”

陈星大致听明白了,这个多重曝光技术就相于要印刷一个AB字母的组合图案。

第一步先把AB拆开,得到A与B两個图案,然后将它们分别制作光掩膜版,紧接着用第一块A字母的掩膜版在硅片上刻了A,再用B字母的掩膜版在硅片上刻上B,最终得到所需要的AB组合图案。

八个字概括就是,精度不够,工序来凑。

“要花两倍的流片费用,高总,14纳米的……”

陈星刚想问问流片费多少,却发现高永明整个人止不住颤抖,瞳孔微缩的同时,充满了恍然大悟与激动之色。

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