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半导体产业四大核心设备——光刻机、离子注入机、刻蚀机、薄膜沉积机,这其中光刻机是最经常被人提及的,原因很简单,因为光刻机是最难的。

杨东升也是正式涉足光刻机领域后,才知道这一块有多难。

如果是追着外国人的屁股研究的话,他们永远别想赶上别人,而且永远也别想盈利,他们无论做出何种等级的设备,西方国家马上就会解除对同等设备的禁运。

得益于杨东升的先知先觉,东升半导体决定直接上马极紫外线光刻相关技术。

光刻机三大核心部件——光源、镜头、工作台。

其中的关键光源技术,深紫外线使用的是准分子激光,跟下一代极紫外线光源相互的关联很少!

而且准分子激光技术应用很广泛,此项技术不止美国一家掌握,想绕过美国相对简单,相比之下极紫外线光源技术就比较妖孽了。

后世阿斯麦的极紫外线光刻机,使用的光源是采用激光持续轰击锡滴。

由于极紫外线只占锡滴发出的光很少一部分,大约只有百分之几,因此要使用足够强的激光轰击锡滴,才能发出足够强的光——至少得是3万瓦以上,而且还得持续不停的输出。

大功率的激光,持续不断的准确命中锡滴,每一项都是要命的技术。

在镜头上,极紫外线也与深紫外线有很大不同,极紫外线非常容易被吸收,深紫外线使用的透镜式镜头已经不能使用了,因为镜头会直接把极紫外线光线吸收掉,因此使用反射式镜头。

由于极紫外线的波长只有十几个纳米,深紫外线使用的纳米极精度,人工打磨镜头的技术也不能用了。

极紫外线用的反射式镜头,精度必须达到皮米级。

而且由于反射式镜头是一个不规则的椭球体——光源位于椭球体其中一个圆心,使用人工打磨,已经不可能。

必须要用等离子自动抛光设备,这东西中国没有,国外也买不来,只能自己造。

镜头上还要镀膜,把极紫外光以外的其他光线吸收掉。

这种规格的镀膜机,也买不来,杨东升也得自己造。

这些还不算完,由于极紫外线非常容易被吸收,即便空气也会吸收极紫外线,所以整个工作环境必须保持高度真空。

光刻机内部必须先使用普通真空泵先吸一遍,再用分子真空泵抽一遍,这还不够,必须还得用吸附式方法,再抽一遍。

杨东升敢把还在研制中的技术,拿给他们看的原因就是光刻机的整体构造,其实没什么秘密可言,考验的就是实打实的工业实力。

这就是最讨厌的地方!

中国进口了上千台航空发动机,但是对自身航空发动机技术的提升,几乎没有任何作用。

荷兰阿斯麦的极紫外线光刻机使用的是美国的光源,德国的镜头,瑞典的轴承,法国的阀件……可以说集合了西方所有发达国家先进技术于一身。

极紫外线光刻机,中国确实做不出来,但是美国人独自也做不出来。

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